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dc.contributor.authorSousa, José Hugo de Aguiar-
dc.contributor.authorMaia Júnior, Paulo Herbert França-
dc.contributor.authorSilva, Álvaro Neuton de Araújo-
dc.contributor.authorLima, Francisco Marcone-
dc.contributor.authorOliveira, Francisco Wendel Cipriano de-
dc.contributor.authorMagalhães, Rafael Aragão-
dc.contributor.authorFreire, Francisco Nivaldo Aguiar-
dc.contributor.authorSilva, Emerson Mariano da-
dc.date.accessioned2021-07-01T16:13:18Z-
dc.date.available2021-07-01T16:13:18Z-
dc.date.issued2015-
dc.identifier.citationSOUSA, José Hugo de Aguiar; MAIA JÚNIOR, Paulo Herbert França; SILVA, Álvaro Neuton de Araújo; LIMA, Francisco Marcone; OLIVEIRA, Francisco Wendel Cipriano de; MAGALHÃES, Rafael Aragão; FREIRE, Francisco Nivaldo Aguiar; SILVA, Emerson Mariano da. Caracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácido. Revista Materia, Rio de Janeiro, v. 20, n.4, p.866-881, 2015.pt_BR
dc.identifier.issn2359-1900-
dc.identifier.otherDOI 10.1590/S1517-707620150004.0093-
dc.identifier.otherartigo 11658-
dc.identifier.urihttp://www.repositorio.ufc.br/handle/riufc/59296-
dc.description.abstractThe electrodeposition has been used for obtaining semiconductor materials; however, remain unclear the mechanisms involved in this process. Thus, this paper presents the research of this process, showing the characterization of electrodeposited CdTe on platinum substrate in acid solution. The deposition occurs from 0.0 V relative to the electrode Ag/AgCl KClsat with step activated control and diffusion. The thin film of CdTe was electrodeposited on the platinum substrate at room temperature (~ 24 ° C) from an acidic solution. The influence of the applied potential was investigated using surface characterization techniques such as Xray diffraction analyses and scanning electron microscopy. The electrical properties of the films were performed capacitance measurements (Mott-Schottky plot). The thin CdTe films presented the prominent (220) planes, showing have a preferential growth in that plane. The films show a granular morphology influenced by deposition potential and property of an n-type semiconductor.pt_BR
dc.language.isopt_BRpt_BR
dc.subjectEletrodeposiçãopt_BR
dc.subjectPlatinapt_BR
dc.subjectFilme finos de CdTept_BR
dc.titleCaracterização da eletrodeposição de filmes finos de CdTe sobre Pt em meio ácidopt_BR
dc.typeArtigo de Periódicopt_BR
dc.description.abstract-ptbrA eletrodeposição tem sido empregada para a obtenção de materiais semicondutores; todavia, ainda não estão bem esclarecidos os mecanismos envolvidos neste processo. Neste sentido, este trabalho apresenta a investigação deste processo, evidenciando a caracterização do CdTe eletrodepositado sobre substrato platina em solução ácida. A deposição ocorre a partir de 0,0 V, em relação ao eletrodo Ag/AgCl,KClsat, com etapas de controle ativado e de difusão. Os filmes finos de CdTe foram eletrodepositados sobre o substrato de platina a temperatura ambiente (~24°C) a partir de uma solução ácida. A influência do potencial aplicado foi investigada utilizando técnicas de caracterização de superfície, como a difração de raios X e Microscopia eletrônica de varredura. A caracterização elétrica foi realizada por medidas de capacitância (Mott-Schottky). Os filmes finos de CdTe apresentaram pico de maior intensidade no plano (220), demostrando ter um crescimento preferencial para esse plano. Os filmes apresentam uma morfologia granular influenciado pelo potencial de deposição e uma condutividade característica de um semicondutor tipo n.pt_BR
dc.title.enCharacterization of electrodeposited CdTe thin films on Pt in acid electrolytept_BR
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